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核心参数
- 仪器种类：实验室
- 测定原理：其它
- 测定范围：0.01~5mg/L
- 测定准确度：±1%
- 检出限 ：≤0.005mg/L
- 测定时间：30样品/小时
- 批处理量：不限
产品介绍
一、产品应用：
可应用于半导体CMP抛光材料、石油催化裂化、汽车尾气净化、护肤品抗紫外线材料、抗氧化剂、生物医学成像等。
二、基本信息：
分子式 Molecular Formula | CeO2 |
摩尔质量 Molar Mass | 172.115 g/mol |
密度 Density | 7.65 g/cm3 |
颗粒度 Particle Size | Dn (50)<80nm |
三、CMP抛光用纳米氧化铈 测试数据：
测试项 | 结果 | 测试项 | 结果 |
颗粒名称 | 氧化铈 | 浓度 | 0.0001% |
颗粒折射率 | 2.200 | 径距 | 0.860 |
颗粒吸收率 | 0.100 | 一致性 | 0.290 |
分散剂名称 | Water | 比表面积 | 4432 m2/kg |
分散剂折射率 | 1.330 | D [3,2] | 0.190 µm |
散射模型 | Mie | D [4,3] | 0.492 µm |
分析模型 | 通用 | Dn (50) | 0.0784 µm |
加权残差 | 2.09% | Dn (90) | 0.123 µm |
激光遮光度 | 2.13% | Dn (100) | 1.02 µm |
深圳市匠芯时代科技有限公司
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