核心参数
- 仪器种类:实验室
- 测定原理:其它
- 测定范围:0.01~5mg/L
- 测定准确度:±1%
- 检出限 :≤0.005mg/L
- 测定时间:30样品/小时
- 批处理量:不限
产品介绍
WCA系列单晶硅片研磨用板状氧化铝
特点:晶体形貌呈板状、边角形状圆滑,不易产生划痕,粒度分布范围窄,硬度高(莫氏硬度9),磨削力强,研磨后材料表面光滑,是专为电子行业单晶硅片研磨而特制的磨料,取代进口,国内..生产。
用途:
(1)电子行业单晶硅片的研磨、抛光。
(2)电子行业用水晶晶片的研磨抛光。
(3)不锈钢餐具及其它装饰材料的抛光。
(4)手机金属外壳的抛光。
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河南天马新材料股份有限公司
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